Продукты

Продукты

Semicorex является профессиональным производителем и поставщиком в Китае. Наша фабрика производит бочковые токоприемники, токоприемники mocvd, вафельные лодочки и т. д. Экстремальный дизайн, качественное сырье, высокая производительность и конкурентоспособная цена — это то, чего хочет каждый клиент, и это также то, что мы можем вам предложить. Мы принимаем высокое качество, разумную цену и безупречный сервис.
View as  
 
Носитель RTP для эпитаксиального роста MOCVD

Носитель RTP для эпитаксиального роста MOCVD

Semicorex RTP Carrier для эпитаксиального выращивания MOCVD идеально подходит для обработки полупроводниковых пластин, включая эпитаксиальный выращивание и обработку пластин. Углеродографитовые токоприемники и кварцевые тигли обрабатываются методом MOCVD на поверхности графита, керамики и т. д. Наша продукция имеет хорошее ценовое преимущество и охватывает многие рынки Европы и Америки. Мы с нетерпением ждем возможности стать вашим долгосрочным партнером в Китае.

Читать далееОтправить запрос
Компонент ICP с SiC-покрытием

Компонент ICP с SiC-покрытием

Компонент ICP с SiC-покрытием Semicorex разработан специально для высокотемпературных процессов обработки пластин, таких как эпитаксия и MOCVD. Благодаря тонкому кристаллическому покрытию SiC наши носители обеспечивают превосходную термостойкость, равномерную термическую однородность и длительную химическую стойкость.

Читать далееОтправить запрос
Высокотемпературное SiC-покрытие для камер плазменного травления

Высокотемпературное SiC-покрытие для камер плазменного травления

Когда дело доходит до таких процессов обработки пластин, как эпитаксия и MOCVD, высокотемпературное SiC-покрытие Semicorex для камер плазменного травления является лучшим выбором. Наши носители обеспечивают превосходную термостойкость, равномерную термическую однородность и длительную химическую стойкость благодаря тонкому кристаллическому покрытию SiC.

Читать далееОтправить запрос
Лоток для плазменного травления ICP

Лоток для плазменного травления ICP

Лоток для плазменного травления Semicorex ICP разработан специально для высокотемпературных процессов обработки пластин, таких как эпитаксия и MOCVD. Благодаря стабильной стойкости к высокотемпературному окислению до 1600°C наши носители обеспечивают равномерные температурные профили, ламинарный характер потока газа и предотвращают загрязнение или диффузию примесей.

Читать далееОтправить запрос
Система плазменного травления ICP

Система плазменного травления ICP

Носитель Semicorex с покрытием SiC для системы плазменного травления ICP представляет собой надежное и экономичное решение для высокотемпературных процессов обработки пластин, таких как эпитаксия и MOCVD. Наши носители имеют тонкое кристаллическое покрытие SiC, которое обеспечивает превосходную термостойкость, равномерную термическую однородность и длительную химическую стойкость.

Читать далееОтправить запрос
Индуктивно-связанная плазма (ИСП)

Индуктивно-связанная плазма (ИСП)

Токоприемник Semicorex с покрытием из карбида кремния для индуктивно-связанной плазмы (ICP) разработан специально для высокотемпературных процессов обработки пластин, таких как эпитаксия и MOCVD. Благодаря стабильной стойкости к высокотемпературному окислению до 1600°C наши носители обеспечивают равномерные температурные профили, ламинарный характер потока газа и предотвращают загрязнение или диффузию примесей.

Читать далееОтправить запрос
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept