> Новости > Новости компании

Новости компании

Плазменные процессы при операциях CVD

Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) относится к технологии процесса, при которой несколько газообразных реагентов при различных парциальных давлениях вступают в химическую реакцию при определенных условиях температуры и давления. Полученное твердое вещество осаждается на поверхности материала......

Кремниевые эпитаксиальные слои и подложки в производстве полупроводников

В современной электронике, оптоэлектронике, микроэлектронике и информационных технологиях незаменимы полупроводниковые подложки и эпитаксиальные технологии. Они обеспечивают прочную основу для производства высокопроизводительных и надежных полупроводниковых приборов. По мере развития технологий полу......

Значение пористых графитовых материалов для роста кристаллов SiC

Компонент печи для выращивания кристаллов SiC компании Semicorex, корпус из пористого графита, принесет три основных преимущества и может эффективно повысить конкурентоспособность отечественных подложек SiC:

Первая компания по производству 6-дюймовых подложек из оксида галлия.

Недавно наша компания объявила, что компания успешно разработала 6-дюймовый монокристалл оксида галлия методом литья, став первой отечественной промышленной компанией, освоившей технологию подготовки подложки из 6-дюймового монокристалла оксида галлия.

Теплоизоляционный материал

Процесс роста монокристаллического кремния преимущественно происходит в тепловом поле, где качество тепловой среды существенно влияет на качество кристаллов и эффективность роста. Конструкция теплового поля играет решающую роль в формировании температурных градиентов и динамики газового потока внутр......

Что такое графитовый токоприемник с покрытием SiC?

Чтобы представить графитовый токоприемник с покрытием SiC, важно понять его применение. При изготовлении устройств на некоторых подложках пластин необходимо создавать дополнительные эпитаксиальные слои.

<...4 5 6 7 8...9 >