Печные трубы с CVD-покрытием SiC

Semicorex CVD с SiC-покрытиемпечные трубыпредставляют собой технологические трубы большого диаметра, которые обеспечивают стабильную реакционную камеру для высокотемпературной обработки полупроводниковых пластин. Они предназначены для работы в атмосфере, содержащей кислород (газ-реагент), азот (защитный газ) и небольшое количество хлористого водорода, со стабильной рабочей температурой около 1250 градусов Цельсия.

Преимущества печных труб Semicorex CVD с SiC-покрытием

1. Передовые технологии формования и гибкое производство по индивидуальному заказу.

Созданная с помощью технологии 3D-печати компания Semicorex.CVD-карбид кремнияПечные трубы с покрытием имеют бесшовную цельную керамическую структуру без каких-либо слабых мест. Эта технология формования гарантирует исключительную газонепроницаемость, которая эффективно предотвращает попадание внешних загрязнений и поддерживает необходимую температуру, давление и атмосферные условия для обработки полупроводниковых пластин.

Кроме того, технология 3D-печати также поддерживает производство изделий сложной формы и точный контроль размеров. Возможно изготовление по индивидуальному заказу с учетом диаметра, длины, толщины стенки и допусков в соответствии с различными требованиями, чтобы обеспечить полную совместимость с вертикальными или горизонтальными печами клиентов.

2. Тщательный выбор материала и контроль чистоты.

Печные трубы Semicorex CVD с SiC-покрытием изготовлены из тщательно отобранного полупроводникового материала высокой чистоты. Содержание примесей в их матрице контролируется на уровне ниже 300 частей на миллион, а содержание примесей в CVD-покрытии SiC ограничено менее 5 частей на миллион. Такой строгий контроль чистоты значительно снижает загрязнение пластин, вызванное металлическими примесями, осаждающимися в условиях высокотемпературной эксплуатации, что значительно повышает выход и производительность конечных полупроводниковых устройств. Кроме того, использование CVD-покрытия SiC повышает жаростойкость, стойкость к химической коррозии и термическую стабильность печных труб Semicorex с CVD-покрытием SiC, тем самым значительно продлевая срок их службы в суровых условиях эксплуатации.

Обладая множеством преимуществ, печные трубы Semicorex с CVD-покрытием SiC способны обеспечить стабильное, подходящее и сверхчистое реакционное пространство для обработки полупроводниковых пластин. Равномерное распределение температуры и устойчивая газовая атмосфера внутри печей, обеспечиваемые печными трубами Semicorex CVD с SiC-покрытием, помогают добиться более точной диффузии легирующих примесей, термического окисления, отжига и осаждения тонких пленок.