Чистящий бак

Резервуар для очистки Semicorex изготовлен из высококачественного кварца и обеспечивает непревзойденную производительность и надежность, гарантируя тщательную очистку полупроводниковых пластин и отсутствие любых загрязнений, которые могут поставить под угрозу их целостность.

Кварц выбран для изготовления резервуара для очистки из-за его исключительной химической стойкости и термической стабильности. Кварцевый резервуар для очистки устойчив к агрессивным химическим веществам, обычно используемым в процессах очистки, таким как плавиковая кислота и другие сильные травители. Его термическая стабильность гарантирует, что он может выдерживать высокие температуры, часто необходимые при обработке полупроводников, без деформации и ухудшения качества, сохраняя структурную целостность и производительность в течение длительного времени.

Конструкция очистительного бака тщательно разработана для оптимизации процесса очистки. Его гладкая, бесшовная внутренняя поверхность сводит к минимуму образование частиц и предотвращает накопление загрязнений. Бак для очистки предназначен для использования различных методов очистки, включая химические ванны, ультразвуковую очистку и мегазвуковую очистку. Каждый метод имеет свои особые преимущества, а универсальность резервуара для очистки позволяет использовать его на нескольких этапах процесса очистки: от первоначальной очистки пластин до окончательного ополаскивания и сушки.

В химических ваннах резервуар для очистки обеспечивает равномерное воздействие чистящих растворов на пластины, что способствует последовательной и тщательной очистке. Равномерное воздействие имеет решающее значение для удаления твердых частиц, органических остатков и металлических загрязнений с поверхности пластины. При ультразвуковой и мегазвуковой очистке высокочастотные звуковые волны создают в чистящем растворе микроскопические кавитационные пузырьки. Когда эти пузырьки схлопываются, они создают мощные ударные волны, которые вытесняют и удаляют загрязнения с поверхности пластины. Прочная кварцевая конструкция очистительного бака выдерживает интенсивные условия, возникающие при использовании этих методов очистки, обеспечивая долговечность и эффективность.