Пластина кремния на изоляторе, также известная как пластина кремния на изоляторе, представляет собой тип полупроводниковой пластины, которая широко используется в производстве современных интегральных схем (ИС). Semicorex стремится предоставлять качественную продукцию по конкурентоспособным ценам, и мы надеемся стать вашим долгосрочным партнером в Китае.
Структура пластины кремния на изоляторе состоит из трех основных слоев. Верхний слой представляет собой тонкую пленку монокристаллического кремния, толщина которой обычно составляет от нескольких нанометров до нескольких микрометров. Этот тонкий слой кремния служит активной областью, в которой создаются транзисторы и другие электронные компоненты.
Под тонким слоем кремния находится слой изолирующего материала. Этот изолирующий слой действует как барьер, предотвращая поток электрических зарядов между тонким слоем кремния и слоем подложки.
Нижний слой представляет собой подложку, представляющую собой более толстый слой монокристаллического кремния. Он обеспечивает механическую поддержку пластины, а также служит радиатором для рассеивания выделяемого тепла.
Процесс производства пластин «кремний на изоляторе» включает в себя различные методы, включая методы склеивания пластин и переноса слоев. Эти методы позволяют создать высококачественный тонкий слой кремния поверх изолирующего слоя.
Пластины кремния на изоляторе становят все более важными в полупроводниковой промышленности, особенно в производстве микропроцессоров, устройств памяти, радиочастотных схем и высокоскоростных систем связи. Их уникальная структура и преимущества делают их предпочтительным выбором для передовых электронных приложений, способствуя созданию более быстрых и эффективных устройств в различных областях.