PBN Крагли

Полуорекс пиролитический нитрид бора. Изготовленные в рамках процесса химического осаждения паров (CVD), PBN Crucibles предлагают превосходную чистоту, исключительную тепловую стабильность и выдающуюся химическую инертность, что делает их материалом, выбранным в современных материалах.

Поскольку нитрид бора имеет коэффициент термического расширения, сравнительный, с тем, что у кварца, но его теплопроводность в 10 раз больше, чем у последнего, он обладает превосходной стойкостью теплового шока, что может снизить риск растрескивания из -за быстрых изменений температуры, и может провести велосипед несколько раз при 20 ~ 1200 ℃ без каких -либо проблем. Кроме того, нитрид бора не реагирует с кислотами, щелочками, стеклом и большинством металлов и имеет низкую механическую прочность, лишь немного выше графита, но не смягчается при нагрузке при высоких температурах и может обрабатывать общие машины для обработки металлов. Следовательно, он действительно подходит для использования в качестве тиглевого, сосуда, жидкости для доставки металлов и плесени для стального литья для плавления и испарения металлов.

Обычно он производится химическим осаждением паров с использованием борасодержащего газа (BCL3 или B2H6) в качестве сырья, но поскольку B2H6 очень токсичен, в настоящее время используется BCL3 в качестве сырья. Газ, содержащий бор, подвергается пиролизу (1500 ~ 1800 ℃) и реагирует с NH3 в высокотемпературной реакционной камере с образованием нитрида твердого бора. Поскольку пиролиз происходит во время реакции, он также называетсяпиролитический нитрид бораТигб (обычно известный как крестообразные PBN).

Процесс роста материала похож на «падение снега», то есть гексагональные снежинки BN, выращенные в реакции, постоянно накапливаются на нагретой графитовой субстрате (ядра). Со временем слой накопления сгущается, образуя оболочку PBN. Demolding - это независимый, чистый компонент PBN, а на нем осталось покрытие PBN. Поскольку крестообразные PBN не нужно проходить через традиционный процесс горячего прессования спекания и не нуждается в добавлении какого -либо спекания, он имеет очень высокую чистоту (более 99,99%), а рабочая температура при вакууме достигает 1800 градусов, а температура работы при атмосферной защите может достигать до 2100 ° C (обычно или аргуна). Он в основном используется в эпитаксии испарения/молекулярного луча (MBE)/роста кристаллов GAAS и других целей.