Керамический вакуумный патрон из глинозема

Керамический вакуумный патрон Semicorex Alumina играет важную роль на этапах утонения и шлифования пластин при производстве полупроводников. Эти этапы включают тщательное уменьшение толщины подложки пластины для улучшения отвода тепла от чипа, что жизненно важно для повышения эффективности и долговечности полупроводниковых устройств. Утончение пластин до точных характеристик также имеет решающее значение для внедрения передовых технологий упаковки.

Совместимость с пластинами разных размеров

Керамический вакуумный патрон из оксида алюминия предназначен для поддержки пластин широкого диапазона размеров, включая 2, 3, 4, 5, 6, 8 и 12 дюймов. Такая адаптивность делает его пригодным для широкого спектра производственных сред полупроводников, обеспечивая стабильную и надежную работу при различных размерах пластин.

Превосходный состав материала

Основание глиноземного керамического вакуумного патрона изготовлено из сверхчистого 99,99% глинозема (Al2O3), который обеспечивает исключительную стойкость к химическому воздействию и термическую стабильность. Адсорбционная поверхность изготовлена ​​из пористого карбида кремния (SiC). Компактная и однородная структура пористого керамического материала повышает его долговечность и производительность.

Преимущества технологии микропористой керамики

Повышенная плоскостность и параллельность: микропористый вакуумный патрон из глиноземной керамики обеспечивает исключительную плоскостность и параллельность, гарантируя точную обработку пластин и стабильность.

Оптимальная пористость и воздухопроницаемость: хорошо распределенные микропоры обеспечивают превосходную воздухопроницаемость и равномерную силу адсорбции, что обеспечивает плавную и стабильную работу.

Чистота материала и долговечность: наш глиноземный керамический вакуумный патрон, изготовленный из чистого глинозема на 99,99%, устойчив к химическому воздействию и обладает замечательной термической стабильностью, что делает его пригодным для сложных производственных условий.

Настраиваемый дизайн: мы предлагаем различные настраиваемые формы, в том числе круглые, квадратные, петлевые и L-образные, с толщиной от 3 мм до 10 мм. Такая индивидуализация гарантирует, что наш вакуумный патрон из глиноземной керамики отвечает конкретным потребностям различных процессов производства полупроводников.

Разнообразные варианты базового материала: исходя из требований к плоскостности и стоимости производства, мы предоставляем рекомендации по различным базовым материалам, таким как нержавеющая сталь SUS430, алюминиевый сплав 6061, плотная глиноземная керамика (цвет слоновой кости), гранит и плотная карбидокремниевая керамика. Каждый материал выбран таким образом, чтобы оптимизировать вес и производительность глиноземно-керамического вакуумного патрона.