MOCVD является ключевым оборудованием

Оборудование MOCVD является ключевым оборудованием в производственном процессе полупроводниковой промышленности, но также составляет значительную долю инвестиций в оборудование в цепочке полупроводниковой промышленности (три основных процесса и оборудования: литография, травление, напыление тонкой пленки), инвестиции в производственные линии светодиодов, MOCVD сумма инвестиций может составлять до 50%. В CVD-оборудовании подложку нельзя размещать непосредственно на металле или просто размещать поверх основы для эпитаксиального осаждения, поскольку это предполагает влияние различных факторов, таких как направление потока газа (горизонтальное, вертикальное), температура, давление, фиксация. , удаляя загрязнения. Поэтому используется база и подложка помещается на диск, а затем выполняется эпитаксиальное осаждение поверх подложки с использованием технологии CVD. Эта основа представляет собой графит с покрытием SiC.токоприемник(которое также можно назватьперевозчик), а его структура показана на рисунке ниже.