TSMC: 2-нм технологический риск в следующем году

В своем недавно выпущенном годовом отчете председатель TSMC Дейин Лю и генеральный директор Чие-Джиа Вей рассказали о прогрессе, связанном с 2-нм техпроцессом.
Согласно письму к акционерам, в прошлом году они увеличили свои усилия в области НИОКР, работая над технологиями, особенно над 2-нанометровым техпроцессом, потратив 5,47 млрд долларов на НИОКР для расширения своего технологического лидерства и дифференциации.
Для 2-нанометрового техпроцесса TSMC будет использовать структуру нанолистового транзистора с улучшенными характеристиками и энергоэффективностью. По сравнению с процессом N3E, 2-нм техпроцесс увеличит скорость на 10-15% при том же энергопотреблении или снизит энергопотребление на 25-30% при той же скорости, чтобы удовлетворить растущий спрос на энергоэффективные вычисления.
В настоящее время разработка 2-нанометрового техпроцесса идет по плану, с рискованным пилотным производством в 2024 году и массовым производством в 2025 году.