Первая компания по производству 6-дюймовых подложек из оксида галлия.

Недавно наша компания объявила, что компания успешно разработала 6-дюймовыйОксид галлия (Ga2O3)монокристалла методом литья, став первой отечественной промышленной компанией, освоившей технологию подготовки 6-дюймовой монокристаллической подложки из оксида галлия.

Компания использовала собственный инновационный метод литья для успешного получения высококачественного 6-дюймового непреднамеренно легированного и проводящего монокристалла оксида галлия, а также обработала6-дюймовая подложка из оксида галлия.

По сравнению с традиционными полупроводниковыми материалами из карбида кремния, полупроводниковый материал четвертого поколенияоксид галлияимеет более высокое выдерживаемое напряжение, более низкую стоимость и более высокую эффективность энергосбережения. Благодаря отличным характеристикам и низкой стоимости производства,оксид галлияв основном используется для подготовки силовых устройств, радиочастотных устройств и устройств обнаружения. Он широко используется в железнодорожном транспорте, интеллектуальных сетях, транспортных средствах на новой энергии, производстве фотоэлектрической энергии, мобильной связи 5G, национальной оборонной и военной промышленности и т. д.

В ближайшие 10 лет или около того,оксид галлияустройства, вероятно, станут конкурентоспособными силовыми электронными устройствами и будут напрямую конкурировать с устройствами из карбида кремния. Кроме того, в отрасли в целом полагают, что в будущемоксид галлияожидается, что он заменитКарбид кремнияи нитрид галлия, чтобы стать представителем нового поколения полупроводниковых материалов.