Подложка SOI (кремний на изоляторе) представляет собой структуру, в которой изолирующий слой оксида кремния (SiO2) вводится между верхним слоем кремния икремниевая подложка, а интегральные схемы изготавливаются на верхнем тонком слое кремния. Эта технология использования материалов КНИ для изготовления интегральных схем называется технологией КНИ.
1. Разделение имплантированным кислородом (SIMOX).
2. Бонд и протравливание SOI (BESOI)
3. Технология Smart-cut.
1. Низкий ток утечки подложки.
Наличие изолирующего слоя SiO2 эффективно изолирует транзистор от нижележащей кремниевой подложки. Эта изоляция уменьшает нежелательный ток от активного слоя к подложке. Ток утечки увеличивается с ростом температуры, что значительно повышает надежность чипа в условиях высоких температур.
2. Уменьшение паразитной емкости.
Из-за существования паразитной емкости при передаче сигнала неизбежно возникают дополнительные задержки. Использование материалов SOI для уменьшения этих паразитных емкостей является обычной практикой в быстродействующих или маломощных микросхемах. По сравнению с обычными чипами, изготовленными с использованием КМОП-процессов, чипы SOI могут достигать на 15 % более высокой скорости и на 20 % меньшего энергопотребления.
3. Шумоизоляция
В приложениях со смешанными сигналами электрический шум, создаваемый цифровыми схемами, может мешать аналоговым или радиочастотным (РЧ) схемам, что приведет к снижению общей производительности системы. Изолирующий слой SiO2 в структуре КНИ изолирует активный кремниевый слой от подложки, обеспечивая тем самым собственную шумоизоляцию. Это означает, что можно эффективно предотвратить распространение шума, создаваемого цифровыми схемами, через подложку к чувствительным аналоговым схемам.
1. Сектор бытовой электроники
СКНИ-подложкиможет значительно улучшить производительность таких устройств, как радиочастотные фильтры и усилители мощности, а также добиться более быстрой передачи сигнала и снижения энергопотребления. Они широко используются в производстве чипов для интеллектуальных носимых устройств, таких как умные часы и устройства мониторинга здоровья, а также в радиочастотных интерфейсных модулях мобильных телефонов и планшетов.
2. Автомобильная электроника
Благодаря отличным характеристикам, позволяющим противостоять сложным электромагнитным условиям, подложки SOI хорошо подходят для производства автомобильных микросхем управления питанием и приложений в системах автономного вождения.
3. Аэрокосмическая и оборонная отрасли
Подложки КНИ обеспечивают исключительную надежность и устойчивость к радиационным помехам и способны удовлетворить строгие требования оборудования спутниковой связи и военных электронных систем к высокой точности и высокой надежности.
4. Интернет вещей (IoT)
С ростом объема данных Интернета вещей растет спрос на недорогие и высокоточные операции. Благодаря низкому энергопотреблению и высокой производительности подложки SOI идеально соответствуют требованиям Интернета вещей и широко применяются в производстве микросхем сенсорных узлов и микросхем периферийных вычислений.
5. Имплантируемые медицинские устройства в области медицинской электроники
К таким устройствам, как кардиостимуляторы и нейростимуляторы, предъявляются чрезвычайно высокие требования к низкому энергопотреблению и биосовместимости. Низкое энергопотребление и стабильность подложек КНИ позволяют обеспечить длительную безопасную работу имплантируемых устройств при минимизации воздействия на организм пациента.